给大家介绍一下半导体产业的明珠——光刻机。国产28nm去A产线搭建得基本差不多了，现在就等上海微电子的28nm光刻机。不过早在20年就说20年底交付，21年又说21年底交付，现在都快22年底了还是没交付，感觉今年也悬了。

网友:尹志尧放弃美国的优厚条件带了大批工程师回国创建了中微，让我国刻蚀机处于领先位置。光刻机没有外国的工程师科学家参与我想也很难突破，毕竟先进的人才和技术在国外。网友:以前光刻机的战略是买买买！现在是造造造。要谢谢大老美，倒逼中国自强。再有五年时间，中国光刻机就会有大的进步。

网友:按照披露的信息今年年底应该是攻克了65纳米的光刻机，28纳米没那么容易，能2025年出来我算感到非常欣慰的了。网友:国企搞尖端技术工程师时间不够，一般上班12小时开会6小时，思想指导2小时，吃饭2小时，实际工作也就2小时，超人也来也不行。

网友:对任何有闯劲的企业都要报以敬畏和包容的态度，什么事情不可能一蹴而就，根基不稳，后续发展就会很危险。网友:上海微电子最先进的是90纳米光刻机，不要小看90纳米光刻机，全世界完全靠自主知识产权制造的国家不超过10个。另外就是90纳米光刻机能生产45纳米芯片。而荷兰阿斯麦公司的极紫外光刻机是7纳米的极限是生产3纳米芯片。中芯国际能量产14纳米芯片但大部分用到欧美专利不能算自主知识产权。